인스타 좋아요 늘리기 반도체 핵심기술 중국 유출 혐의 6명 기소…검찰·특허청 공조
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작성자 행복이 작성일23-01-28 22:47 조회2회 댓글0건관련링크
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인스타 좋아요 늘리기 반도체 웨이퍼 연마(CMP)와 관련된 국가핵심기술을 중국에 유출한 일당이 재판에 넘겨졌다.대전지검 특허범죄조사부(부장검사 정지은)와 특허청 기술디자인특별사법경찰(기술경찰)은 산업기술보호법과 부정경쟁방지법(영업비밀 국외누설 등) 등의 위반 혐의로 A씨(55) 등 3명을 구속기소하고, 3명은 불구속기소했다고 26일 밝혔다. CMP(Chemical Mechanical Polishing)는 반도체 공정 과정에서 형성된 웨이퍼 표면의 미세한 요철을 평탄화(연마)하는 공정 기술이다.국내 반도체 업계 3개 업...댓글목록
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